與(yu)水(shui)基(ji)或有(you)機溶劑型噴(pen)墨(mo)不一，紅外光(guang)譜(pu)線干(gan)固(gu)藍墨(mo)水(shui)要厚得多，動力(li)效果(guo)也高。灑(sa)(sa)水(shui)噴(pen)槍被熱處(chu)理加(jia)熱以(yi)(yi)降(jiang)低動力(li)效果(guo)，所以(yi)(yi)就可以(yi)(yi)合(he)理地采(cai)取(qu)噴(pen)射式；所以(yi)(yi)，必定用(yong)到(dao)實(shi)業光(guang)電(dian)探測器灑(sa)(sa)水(shui)噴(pen)槍。不可用(yong)到(dao)熱敏噴(pen)墨(mo)或低動力(li)效果(guo)光(guang)電(dian)探測器噴(pen)墨(mo)灑(sa)(sa)水(shui)噴(pen)槍，如DesignJet或SureColor等縮印出(chu)(chu)(chu)機中出(chu)(chu)(chu)賣的哪幾(ji)個灑(sa)(sa)水(shui)噴(pen)槍。應用(yong)于紅外光(guang)譜(pu)線干(gan)固(gu)uv墨(mo)水(shui)的實(shi)業縮印出(chu)(chu)(chu)頭(tou)(tou)要很貴得多，而主(zhu)要采(cai)用(yong)這么(me)多縮印出(chu)(chu)(chu)頭(tou)(tou)的縮印出(chu)(chu)(chu)機也是(shi)都是(shi)這樣(yang)。

紅外光(guang)譜(pu)線(xian)uv印(yin)(yin)刷(shua)(shua)uv墨(mo)(mo)水真(zhen)實還有(you)一款個明星的(de)(de)(de)(de)其優(you)勢，即uv印(yin)(yin)刷(shua)(shua)uv墨(mo)(mo)水就(jiu)不(bu)會像水基或容(rong)劑型(xing)uv印(yin)(yin)刷(shua)(shua)uv墨(mo)(mo)水一樣在管(guan)口(kou)(kou)中化掉(diao)，于(yu)是(shi)(shi)蓋帽和(he)刷(shua)(shua)洗都更加最(zui)易工作管(guan)理，堵(du)死的(de)(de)(de)(de)一些問題也少得多。從怠(dai)慢的(de)(de)(de)(de)兩面(mian)你(ni)看，uv印(yin)(yin)刷(shua)(shua)uv墨(mo)(mo)水愈來(lai)愈加最(zui)易受雜散(san)的(de)(de)(de)(de)紅外光(guang)譜(pu)線(xian)（如室(shi)內環(huan)境光(guang)）的(de)(de)(de)(de)直(zhi)接影響，這將會會促使(shi)早點的(de)(de)(de)(de)交連，因而堵(du)死管(guan)口(kou)(kou)。紅外光(guang)譜(pu)線(xian)凝(ning)固直(zhi)接萬能平板word熱敏打印(yin)(yin)機(ji)的(de)(de)(de)(de)主設備(bei)的(de)(de)(de)(de)特(te)(te)性(xing)是(shi)(shi)要想以防雜散(san)光(guang)，另外的(de)(de)(de)(de)的(de)(de)(de)(de)特(te)(te)性(xing)是(shi)(shi)利用(yong)隨機(ji)數原材料不(bu)有(you)時候利用(yong)的(de)(de)(de)(de)管(guan)口(kou)(kou)中的(de)(de)(de)(de)墨(mo)(mo)滴(di)來(lai)始終(zhong)保持管(guan)口(kou)(kou)的(de)(de)(de)(de)放任(ren)度--這才(cai)是(shi)(shi)一款穩定(ding)的(de)(de)(de)(de)直(zhi)接萬能平板word熱敏打印(yin)(yin)機(ji)規劃中的(de)(de)(de)(de)重中之重的(de)(de)(de)(de)特(te)(te)性(xing)。

別(bie)的(de)(de)(de)(de)個紫外光線(xian)線(xian)的(de)(de)(de)(de)線(xian)印廠油(you)墨(mo)的(de)(de)(de)(de)成(cheng)就是暖空氣中的(de)(de)(de)(de)查看O2的(de)(de)(de)(de)與競(jing)聚率和低(di)聚物的(de)(de)(de)(de)競(jing)爭紫外光線(xian)線(xian)的(de)(de)(de)(de)線(xian)強光照(zhao)時建成(cheng)的(de)(de)(de)(de)隨意基。過度的(de)(de)(de)(de)光引致劑一般被入駐到(dao)墨(mo)水面以補嘗(chang)查看O2的(de)(de)(de)(de)的(de)(de)(de)(de)光降解。如若查看O2的(de)(de)(de)(de)在(zai)(zai)交連(lian)的(de)(de)(de)(de)反應前浪(lang)費了光引致劑，那 交連(lian)可能會不幾乎(hu)。關(guan)鍵在(zai)(zai)于杜絕這話題，并不可以越高(gao)的(de)(de)(de)(de)印廠效率和更完(wan)全的(de)(de)(de)(de)固定(ding)，EFI在(zai)(zai)第一些復(fu)印機的(de)(de)(de)(de)印廠地區主要包(bao)括(kuo)了氫氣 "毯子"，以展示一些無氧的(de)(de)(de)(de)印廠生態。

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